电子工业的高需求预计将对未来7年全球光刻胶化学品市场的增长产生积极影响。光阻剂是一种有机化合物,在紫外线照射下其性质会发生变化。市场上流行的许多此类化学品是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),聚戊二酰亚胺甲酯(PMGI)和酚醛树脂(DNQ)。光刻胶化学产品包括g线、i线、KrF、ArF浸渍和ArF干式光刻胶。
电子电气行业对半导体的需求不断增长,预计将有利于整个市场的发展。对动态显示技术日益增长的需求被认为会给市场带来一定的增长方向。光刻胶化学品的类型包括湿化学品,硅晶片,低k电介质,PCB层压板,CMP泥浆,特种气体和光刻胶。主要的终端应用包括笔记本电脑、计算机、服务器、工业电子产品、游戏机、音乐播放器、移动电话、家用电器、智能手机、汽车工业、固定电话和宽带互联网。
光刻工艺部门也使用这种化学物质。其他终端使用行业,如微电子、包装行业和电路板制造的需求增长,预计将推动光刻胶化学品市场的增长。过度的研发活动带来的技术进步预计将在塑造行业参与者的市场场景中发挥重要作用。纳米机电系统(NEM)等技术预计将在预测期内见证近10%的增长率。硅晶圆制造也需要光刻胶化学品,预计这将有利于整个市场的增长。
硅晶圆被用作半导体的基材和制造用于高端集成电路应用的低k介质。进一步估计,在预测期内,对防反射涂料需求的增长将有利于全球市场的发展。光刻胶化学品来源于石油化工产品,因此与石油和天然气价格密切相关。不稳定的原油和天然气价格被认为会阻碍整个市场的发展。对环境的负面影响的担忧预计将抑制全球市场的增长。EPA和REACH等机构发布的规章制度预计将阻碍全球市场的增长。
近年来,亚太、中南美洲等新兴地区增长迅猛,市场份额超过78%,居全球第一。这一趋势分析表明,光刻胶化学品市场在未来7年将有巨大增长。韩国、中国、台湾、日本等国家由于人口增长和需求增长,主导了区域光刻胶化学品市场,从而促进了全球市场的发展。北美光刻胶化学品市场在过去几年中取得了显著的区域收入。美国电子电气产业的发展对拉动区域市场需求起到了重要作用。预计欧洲在此期间也将出现显著增长。由于主要终端应用市场的强劲需求,德国预计将主导该地区市场。
著名的光刻胶化学行业参与者包括JSR公司、LG化学有限公司、陶氏化学公司和住友化学有限公司。其他重要的企业包括富士电子材料有限公司、东京大卡高工株式会社、新越化学株式会社、Avantor性能材料株式会社、E.I.杜邦内摩尔公司、默克KGaA、三井化学株式会社、TOK美国株式会社、三阳株式会社、RD化学株式会社、Transene电子化学株式会社、奇美株式会社、Sumica电子材料株式会社、Honsou化学株式会社、AZ电子材料株式会社、Kem实验室、RD化学株式会社和盖洛德化学株式会社。主要市场参与者为获得更多收入份额和行业稳定性而频繁进行的并购导致了高技术进步。采用最佳策略的行业参与者约占总市场份额的80%以上。